拓荆科技:“ALD设备研发与产业化项目”进展顺利 目前厂房已基本完成建设

集微网消息 近日,拓荆科技在接受机构调研时表示,公司 IPO 募投项目三“ALD 设备研发与产业化项目”进展顺利,目前厂房已基本完成建设,已进行 ALD 产品研发工作。公司超募项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”,正在按照实施计划顺利推进,主要用于 ALD 设备及工艺的研发,并实现以临港为中心客户群所需半导体设备的产业化。

拓荆科技目前主要产品包括 PECVD 设备、ALD 设备和SACVD 设备三个产品系列。根据公司初步统计,2022 年度的营业收入构成仍以这三类设备产品为主。根据公司现阶段经营计划,预计 2023 年产品结构不会有较大调整。公司产品已广泛应用于国内成熟制程集成电路制造产线。

根据 SEMI 等数据统计,2021 年全球薄膜沉积设备市场份额约 210 亿美元,ALD 设备占比约为 11%,这里包括了 Thermal ALD、PE-ALD 等产品。其称,公司在薄膜沉积设备领域已累积了丰富的技术和产品经验,现在已推出的 PE-ALD产品已实现产业化,并在此基础上,开发了 Thermal ALD 产品。

对于产品布局,拓荆科技表示,公司将在现有产品基础上,持续提升产品竞争力,不断扩大市场规模,并继续在高端半导体薄膜设备领域深耕,围绕 CVD 现有市场做深做精,不断在细分领域内拓展产品、工艺的覆盖面,扩大市场占有率。

发表回复

您的电子邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注